Produk
-
Oksigen (O2)
Oksigen ialah gas tidak berwarna dan tidak berbau. Ia adalah bentuk unsur oksigen yang paling biasa. Setakat teknologi berkenaan, oksigen diekstrak daripada proses pencairan udara, dan oksigen dalam udara menyumbang kira-kira 21%. Oksigen ialah gas tidak berwarna dan tidak berbau dengan formula kimia O2, yang merupakan bentuk unsur oksigen yang paling biasa. Takat lebur ialah -218.4°C, dan takat didih ialah -183°C. Ia tidak mudah larut dalam air. Kira-kira 30mL oksigen dilarutkan dalam 1L air, dan oksigen cecair berwarna biru langit. -
Sulfur Dioksida (SO2)
Sulfur dioksida (sulfur dioksida) ialah sulfur oksida yang paling biasa, paling mudah dan merengsa dengan formula kimia SO2. Sulfur dioksida ialah gas tidak berwarna dan lutsinar dengan bau yang tajam. Larut dalam air, etanol dan eter, cecair sulfur dioksida agak stabil, tidak aktif, tidak mudah terbakar, dan tidak membentuk campuran mudah letupan dengan udara. Sulfur dioksida mempunyai sifat pelunturan. Sulfur dioksida biasanya digunakan dalam industri untuk melunturkan pulpa, bulu, sutera, topi jerami, dll. Sulfur dioksida juga boleh menghalang pertumbuhan acuan dan bakteria. -
Etilena Oksida (ETO)
Etilena oksida adalah salah satu eter kitaran yang paling mudah. Ia adalah sebatian heterosiklik. Formula kimianya ialah C2H4O. Ia adalah karsinogen toksik dan produk petrokimia yang penting. Sifat kimia etilena oksida sangat aktif. Ia boleh menjalani tindak balas penambahan pembukaan cincin dengan banyak sebatian dan boleh mengurangkan perak nitrat. -
1.3 Butadiena (C4H6)
1,3-Butadiena ialah sebatian organik dengan formula kimia C4H6. Ia adalah gas tidak berwarna dengan sedikit bau aromatik dan mudah dicairkan. Ia kurang toksik dan ketoksikannya serupa dengan etilena, tetapi ia mempunyai kerengsaan yang kuat pada kulit dan membran mukus, dan mempunyai kesan anestetik pada kepekatan tinggi. -
Hidrogen (H2)
Hidrogen mempunyai formula kimia H2 dan berat molekul 2.01588. Di bawah suhu dan tekanan biasa, ia adalah gas yang sangat mudah terbakar, tidak berwarna, telus, tidak berbau dan tidak berasa yang sukar larut dalam air, dan tidak bertindak balas dengan kebanyakan bahan. -
Neon (Ne)
Neon ialah gas nadir yang tidak berwarna, tidak berbau, tidak mudah terbakar dengan formula kimia Ne. Biasanya, neon boleh digunakan sebagai gas pengisi untuk lampu neon berwarna untuk paparan pengiklanan luar, dan juga boleh digunakan untuk penunjuk cahaya visual dan peraturan voltan. Dan komponen campuran gas laser. Gas mulia seperti Neon, Krypton dan Xenon juga boleh digunakan untuk mengisi produk kaca untuk meningkatkan prestasi atau fungsinya. -
Karbon Tetrafluorida (CF4)
Karbon tetrafluorida, juga dikenali sebagai tetrafluorometana, ialah gas tidak berwarna pada suhu dan tekanan normal, tidak larut dalam air. Gas CF4 kini merupakan gas etsa plasma yang paling banyak digunakan dalam industri mikroelektronik. Ia juga digunakan sebagai gas laser, penyejuk kriogenik, pelarut, pelincir, bahan penebat, dan penyejuk untuk tiub pengesan inframerah. -
Sulfuril Fluorida (F2O2S)
Sulfuryl fluoride SO2F2, gas beracun, digunakan terutamanya sebagai racun serangga. Kerana sulfuryl fluoride mempunyai ciri-ciri penyebaran dan kebolehtelapan yang kuat, insektisida spektrum luas, dos rendah, jumlah sisa yang rendah, kelajuan insektisida yang cepat, masa penyebaran gas yang singkat, penggunaan yang mudah pada suhu rendah, tiada kesan pada kadar percambahan dan ketoksikan yang rendah, lebih banyak Ia semakin banyak digunakan di gudang, kapal kargo, bangunan, empangan takungan, pencegahan anai-anai, dll. -
Silane (SiH4)
Silane SiH4 ialah gas mampat yang tidak berwarna, toksik dan sangat aktif pada suhu dan tekanan normal. Silane digunakan secara meluas dalam pertumbuhan epitaxial silikon, bahan mentah untuk polisilikon, silikon oksida, silikon nitrida, dsb., sel suria, gentian optik, pembuatan kaca berwarna, dan pemendapan wap kimia. -
Octafluorocyclobutane (C4F8)
Octafluorocyclobutane C4F8, ketulenan gas: 99.999%, sering digunakan sebagai propelan aerosol makanan dan gas sederhana. Ia sering digunakan dalam proses semikonduktor PECVD (Plasma Enhance. Chemical Vapor deposition), C4F8 digunakan sebagai pengganti CF4 atau C2F6, digunakan sebagai gas pembersih dan gas etsa proses semikonduktor. -
Nitrik Oksida (NO)
Gas nitrik oksida ialah sebatian nitrogen dengan formula kimia NO. Ia adalah gas tidak berwarna, tidak berbau, beracun yang tidak larut dalam air. Nitrik oksida secara kimia sangat reaktif dan bertindak balas dengan oksigen untuk membentuk gas yang menghakis nitrogen dioksida (NO₂). -
Hidrogen Klorida (HCl)
Gas hidrogen klorida HCL adalah gas tidak berwarna dengan bau yang tajam. Larutan berairnya dipanggil asid hidroklorik, juga dikenali sebagai asid hidroklorik. Hidrogen klorida digunakan terutamanya untuk membuat pewarna, rempah ratus, ubat-ubatan, pelbagai klorida dan perencat kakisan.
